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  • 解析光刻芯片掩模的核心作用與設計
    解析光刻芯片掩模的核心作用與設計
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  • 來源:材聞窗外事  發(fā)布日期: 2024-01-20  瀏覽次數(shù): 578

    光刻是芯片制造中的關鍵步驟之一。

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    AMTC(Advance Mask?Technology Center)是日本TOPPAN與美國Global Foundries(格羅方德)于德國德累斯頓(Dresden)合資成立的掩模企業(yè)。格羅方德原為美國AMD公司的晶圓生產部門,2009年拆分獨立,現(xiàn)為臺積電和三星之后的世界第三大代工廠,但它已經放棄了7納米制程的研發(fā)。

    掩模的制造離不開原材料和設備的支撐。

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